2018年5月25日 星期五

中興別想就此脫身


【摘要2018.5.22.自由】美中兩國發表聯合聲明,宣布第二輪貿易磋商中雙方已達成共識,決定不打貿易戰、停止加徵關稅,但卻未提及被美方制裁的中國中興通訊;白宮經濟顧問庫德洛(Larry Kudlow)週日嚴正指出,美國對中興通訊的懲罰仍會十分嚴厲,「不要認為中興可以就此脫身」。
貿易戰開打後,美國對中興通訊祭出長達七年的禁售令,幾乎致中興於死地;但在美中第二輪貿易磋商展開前,川普於推特上透露將會幫助中興,但隨後卻又否認,讓外界看得「霧煞煞」。
庫德洛向美國廣播公司(ABC)表示,美國對中興的懲罰會「非常、非常嚴厲,包括鉅額罰款、交易管制,並要求管理階層改組和聘任新的董事會成員」,他強調:「不要認為中興可以逃脫懲罰,那是不可能的。」
美國財政部長努勤(Steven Mnuchin)也指出:「總統要求我們非常嚴厲地懲處中興,他所作的一切只是要求商務部長研究此事。」
庫德洛的發言雖然稍微平息了部分質疑聲浪,但仍有諸多輿論批評川普政府對中興的態度。包含「華爾街日報」和「金融時報」等社論都表示,川普縱容屢次背信的中企有損美國的威信,這等同是允許以犯罪行為來換取美國的農產品出口;參議院民主黨領袖舒默(Chuck Schumer 更諷刺地將川普的政治口號「讓美國再次偉大」改為「讓中國再次偉大(making China great again)」。
【摘要2018.5.22.自由】根據中國「每日經濟新聞網」及日本「日經新聞」報導,中國兩大半導體業者長江存儲中芯國際,已先後從荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾(ASML)訂購兩台高階EUV(極紫外線)微影機台,總價值人民幣12億元(約56億台幣),突破「瓦聖納協議」封鎖。
全球四十國在1996年簽署「瓦聖納協議」,禁止向非締約國出口敏感的高科技技術;EUV是生產大型積體電路的核心設備,對晶片精密度有決定性的影響,而從荷蘭電子巨擘飛利浦獨立出來的ASML,其高階EUV的全球市占率高達90%。
報導指出,長江儲存向ASML訂購的EUV機台已運抵武漢,價值7200萬美元;中芯國際也向ASML訂購一台EUV,價值達1.2億美元,預計2019年交貨。長江儲存是紫光集團與中國國家積體電路產業投資基金(俗稱大基金)、湖北科投等於2016年合資成立;中芯國際在兩千年成立,是目前中國最大的半導體業者。
「日經新聞」指出,中國兩大半導體業者向ASML訂購高階EUV,凸顯該國想快速提升國內半導體製造技術,儘管中國半導體製造技術仍落後全球頂尖大廠至少二到三代製程。
全球三大半導體廠的台積電、英特爾和三星電子,已分別向ASML訂購高階EUV,台積電今年訂單高達十台,三星電子約六台,英特爾約三台,格羅方德也向ASML訂購一台;ASML上個月發布財報表示,今年預計將出貨20EUV,但未公布訂戶名單。
ASML表示,公司對全球各地包括中國客戶一視同仁,根據「瓦聖納協議」,對中國客戶出售EUV並無限制。「瓦聖納協議」是世界主要的工業設備和武器製造國在1996年簽署,目的在管制常規武器和軍民兩用等敏感技術輸往中國、北韓及伊拉克等威權國家,目前共有美國、日本、英國、俄羅斯、荷蘭等40個成員國締約。
「瓦聖納協議」規定成員國自行決定是否發放敏感產品或技術的出口許可證,並在自願基礎上向其他成員國通報有關訊息,但實際上由美國主導;例如2004年捷克擬向中國出口「無源雷達設備」時,美國就向捷克施加壓力,迫使捷克停止這項交易。
近來中日媒體報導,中國兩大半導體業者已從荷蘭艾司摩爾(ASML)取得兩台高階EUV微影機台,突破「瓦聖納協議」封鎖;但先前ASML中國區總裁金泳璇接受訪問時強調,EUV並非管制項目,要進口到中國完全沒有任何問題。
EUV微影機 跨入5奈米關鍵【摘要2018.5.22.自由】EUVExtreme Ultraviolet,極紫外線)微影機又稱為光刻機或曝光機,原理就像是照相機,將電路圖經過EUV,投射到塗滿光敏膠的矽片(就像是底片),蝕刻掉一部分膠,露出矽面做化學處理來製造晶片,過程得重複幾十次;EUV的鏡頭是由20多塊大鏡片串聯組成,鏡片得做到均質,才能達到高純度透光及拋光;艾司摩爾(ASML)的鏡片是由蔡司技術打底,花了數十年技術累積。
目前半導體製程的主流光源是氬氟雷射,波長為193奈米,但隨著電晶體微縮到20奈米、甚至10奈米以下,就像用一支粗毛筆寫蠅頭小字,加工越來越困難,而極紫外線的波長僅13.5奈米,被視為是半導體先進製程可微縮到5奈米以下的重要關鍵設備。
【摘要2018.5.22.自由】中國中芯及長江存儲等半導體業者大手筆砸錢向艾司摩爾(ASML)訂購高階EUV微影機台;國內半導體業者直言,台積電、三星及英特爾等全球三大半導體業者,早在ASML開發EUV設備階段就已參與,ASML可說是為這些半導體大咖「量身訂作」,中國業者在製程還遠遠落後下,砸大錢買先進製程設備,會不會用?該怎麼用?都是問題,研判除「宣示」企圖心外,也不排除因伸手向中國政府要錢,總得報帳交差。
台灣業者分析,EUV微影機台能夠加工到現有雷射光微影技術不易達到的20奈米以下精密製程;隨著技術層次不同,EUV微影機台的每台要價可從七千餘萬美元到上億美元;包括台積電及三星為爭奪下一代製程技術領先,傳早向ASML預購十台及六台最新的高階EUV機台,力拚五奈米以下關鍵技術。
業者指出,相較台積電與三星早在力拚七奈米,搶著導入EUV機台及後段先進封裝,中芯還在改善28奈米製程良率,長江存儲還只是小幅量產3264G記憶體,是否有「必要」砸大錢購置高階EUV微影機台,令人存疑;「可能是錢來得容易、多到沒處花吧?」
還有業者直言,半導體工業從應用晶片氧化層成長、微影技術、蝕刻、清洗、雜質擴散、離子植入及薄膜沉積等技術,所須製程多達三百多個步驟,「做的出來不算難、良率高才是真本事」,這也就是為何台積電能維持領先地位的關鍵,中企想光靠砸大錢買新進設備,就妄想快速複製台積電、三星,那恐怕還差得很遠。


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