中興別想就此脫身

Hymn Of The Highlands - Brass Band OÖ

【摘要2018.5.22.自由】美中兩國發表聯合聲明，宣布第二輪貿易磋商中雙方已達成共識，決定不打貿易戰、停止加徵關稅，但卻未提及被美方制裁的中國中興通訊；白宮經濟顧問庫德洛（Larry Kudlow）週日嚴正指出，美國對中興通訊的懲罰仍會十分嚴厲，「不要認為中興可以就此脫身」。

貿易戰開打後，美國對中興通訊祭出長達七年的禁售令，幾乎致中興於死地；但在美中第二輪貿易磋商展開前，川普於推特上透露將會幫助中興，但隨後卻又否認，讓外界看得「霧煞煞」。

庫德洛向美國廣播公司（ABC）表示，美國對中興的懲罰會「非常、非常嚴厲，包括鉅額罰款、交易管制，並要求管理階層改組和聘任新的董事會成員」，他強調：「不要認為中興可以逃脫懲罰，那是不可能的。」

美國財政部長努勤（Steven Mnuchin）也指出：「總統要求我們非常嚴厲地懲處中興，他所作的一切只是要求商務部長研究此事。」

庫德洛的發言雖然稍微平息了部分質疑聲浪，但仍有諸多輿論批評川普政府對中興的態度。包含「華爾街日報」和「金融時報」等社論都表示，川普縱容屢次背信的中企有損美國的威信，這等同是允許以犯罪行為來換取美國的農產品出口；參議院民主黨領袖舒默（Chuck Schumer） 更諷刺地將川普的政治口號「讓美國再次偉大」改為「讓中國再次偉大（making China great again）」。

【摘要2018.5.22.自由】根據中國「每日經濟新聞網」及日本「日經新聞」報導，中國兩大半導體業者長江存儲及中芯國際，已先後從荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾（ASML）訂購兩台高階EUV（極紫外線）微影機台，總價值人民幣12億元（約56億台幣），突破「瓦聖納協議」封鎖。

全球四十國在1996年簽署「瓦聖納協議」，禁止向非締約國出口敏感的高科技技術；EUV是生產大型積體電路的核心設備，對晶片精密度有決定性的影響，而從荷蘭電子巨擘飛利浦獨立出來的ASML，其高階EUV的全球市占率高達90％。

報導指出，長江儲存向ASML訂購的EUV機台已運抵武漢，價值7200萬美元；中芯國際也向ASML訂購一台EUV，價值達1.2億美元，預計2019年交貨。長江儲存是紫光集團與中國國家積體電路產業投資基金（俗稱大基金）、湖北科投等於2016年合資成立；中芯國際在兩千年成立，是目前中國最大的半導體業者。

「日經新聞」指出，中國兩大半導體業者向ASML訂購高階EUV，凸顯該國想快速提升國內半導體製造技術，儘管中國半導體製造技術仍落後全球頂尖大廠至少二到三代製程。

全球三大半導體廠的台積電、英特爾和三星電子，已分別向ASML訂購高階EUV，台積電今年訂單高達十台，三星電子約六台，英特爾約三台，格羅方德也向ASML訂購一台；ASML上個月發布財報表示，今年預計將出貨20台EUV，但未公布訂戶名單。

ASML表示，公司對全球各地包括中國客戶一視同仁，根據「瓦聖納協議」，對中國客戶出售EUV並無限制。「瓦聖納協議」是世界主要的工業設備和武器製造國在1996年簽署，目的在管制常規武器和軍民兩用等敏感技術輸往中國、北韓及伊拉克等威權國家，目前共有美國、日本、英國、俄羅斯、荷蘭等40個成員國締約。

「瓦聖納協議」規定成員國自行決定是否發放敏感產品或技術的出口許可證，並在自願基礎上向其他成員國通報有關訊息，但實際上由美國主導；例如2004年捷克擬向中國出口「無源雷達設備」時，美國就向捷克施加壓力，迫使捷克停止這項交易。

近來中日媒體報導，中國兩大半導體業者已從荷蘭艾司摩爾（ASML）取得兩台高階EUV微影機台，突破「瓦聖納協議」封鎖；但先前ASML中國區總裁金泳璇接受訪問時強調，EUV並非管制項目，要進口到中國完全沒有任何問題。

EUV微影機 跨入5奈米關鍵【摘要2018.5.22.自由】EUV（Extreme Ultraviolet，極紫外線）微影機又稱為光刻機或曝光機，原理就像是照相機，將電路圖經過EUV，投射到塗滿光敏膠的矽片（就像是底片），蝕刻掉一部分膠，露出矽面做化學處理來製造晶片，過程得重複幾十次；EUV的鏡頭是由20多塊大鏡片串聯組成，鏡片得做到均質，才能達到高純度透光及拋光；艾司摩爾（ASML）的鏡片是由蔡司技術打底，花了數十年技術累積。

目前半導體製程的主流光源是氬氟雷射，波長為193奈米，但隨著電晶體微縮到20奈米、甚至10奈米以下，就像用一支粗毛筆寫蠅頭小字，加工越來越困難，而極紫外線的波長僅13.5奈米，被視為是半導體先進製程可微縮到5奈米以下的重要關鍵設備。

【摘要2018.5.22.自由】中國中芯及長江存儲等半導體業者大手筆砸錢向艾司摩爾（ASML）訂購高階EUV微影機台；國內半導體業者直言，台積電、三星及英特爾等全球三大半導體業者，早在ASML開發EUV設備階段就已參與，ASML可說是為這些半導體大咖「量身訂作」，中國業者在製程還遠遠落後下，砸大錢買先進製程設備，會不會用？該怎麼用？都是問題，研判除「宣示」企圖心外，也不排除因伸手向中國政府要錢，總得報帳交差。

台灣業者分析，EUV微影機台能夠加工到現有雷射光微影技術不易達到的20奈米以下精密製程；隨著技術層次不同，EUV微影機台的每台要價可從七千餘萬美元到上億美元；包括台積電及三星為爭奪下一代製程技術領先，傳早向ASML預購十台及六台最新的高階EUV機台，力拚五奈米以下關鍵技術。

業者指出，相較台積電與三星早在力拚七奈米，搶著導入EUV機台及後段先進封裝，中芯還在改善28奈米製程良率，長江存儲還只是小幅量產32層64Ｇ記憶體，是否有「必要」砸大錢購置高階EUV微影機台，令人存疑；「可能是錢來得容易、多到沒處花吧？」

還有業者直言，半導體工業從應用晶片氧化層成長、微影技術、蝕刻、清洗、雜質擴散、離子植入及薄膜沉積等技術，所須製程多達三百多個步驟，「做的出來不算難、良率高才是真本事」，這也就是為何台積電能維持領先地位的關鍵，中企想光靠砸大錢買新進設備，就妄想快速複製台積電、三星，那恐怕還差得很遠。